大家好,小东方来为大家解答以上的问题。蚀刻机 光刻机，蚀刻机光刻机这个很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧！
1、蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。
2、在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
3、光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
4、常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
5、Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。
6、光栅刻画:光学中光栅最通常的作用是色散。
7、光栅刻划是制作光栅的方法之一。
8、蚀刻机光刻机。
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