磁控溅射(关于磁控溅射介绍)

2023-06-01 22:05:36 社会百科 0阅读 回答者:admin

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1、 磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。

2、一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

3、上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。

4、因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。

5、磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

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